在磁共振成像中使用的开孔磁体专利登记公告

专利名称：在磁共振成像中使用的开孔磁体

摘要：提供了磁共振系统，其使用受屏蔽的、电磁上非对称的和低应力的磁体来产生接近于患者侧的较大尺寸的成像区。磁体具有双层配置。在初级层中，磁体包括在磁体的两端处的至少两个最强的线圈（端线圈），其在相同的方向上承载电流。磁体可包括接近于端线圈的至少一个线圈，其在与端线圈相反的方向上承载电流。磁体使用在初级层的中央区域中的多个较小尺寸的线圈（4-7个，相对于大的端线圈），且这些线圈关于成像区中心被非对称地定位。磁体被多个（1-5）屏蔽线圈屏蔽，屏蔽线圈在与初级层处的端线圈相反的方向上承载电流。与常规短孔磁体比较，本发

专利类型：发明专利

专利号：CN201080057184.5

专利申请（专利权）人：NMR控股2号有限公司

专利发明（设计）人：刘峰;日宇·魏;斯图尔特·克罗泽

主权项：一种适合于在磁共振系统中使用的超导磁体，包括初级线圈结构，其具有沿着轴定位的至少五个初级线圈，所述至少五个初级线圈包括相邻于所述磁体的患者侧的第一端线圈和相邻于所述磁体的服务侧的第二端线圈，所述磁体能够产生至少1.5特斯拉的磁场，所述磁场在预先确定的成像区上实质上是均匀的，其中所述初级线圈结构具有非对称的电磁配置，所述线圈结构关于所述成像区的轴向中心不是对称的，且在所述成像区的所述轴向中心的所述患者侧上的所述初级线圈比在所述成像区的所述轴向中心的所述服务侧上的初级线圈具有更大的总电流，以及其中至少紧挨着第

专利地区：澳大利亚