气体注入单元和使用该气体注入单元的薄膜气相沉积设备及方法专利登记公告

专利名称：气体注入单元和使用该气体注入单元的薄膜气相沉积设备及方法

摘要：本发明公开一种气体注入单元和使用该气体注入单元的薄膜气相沉积设备及方法。所述气体注入单元包括：内部管道，通过所述内部管道引入反应气体；外部管道，所述外部管道包围所述内部管道，冷却所述内部管道内的反应气体的冷却液通过所述外部管道流动；以及注入管道，所述注入管道将所述内部管道内的反应气体注入到所述外部管道的外部。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080057366.2

专利申请（专利权）人：细美事有限公司

专利发明（设计）人：朴炯洙

主权项：一种用于沉积薄层的设备，包括：工艺腔室；基板支撑单元，所述基板支撑单元被配置在所述工艺腔室中，用于支撑基板；加热器，所述加热器加热由所述基板支撑单元支撑的基板；气体注入单元，所述气体注入单元被配置在所述工艺腔室内基板支撑单元的上方；其中，所述气体注入单元包括：内部管道，通过所述内部管道引入反应气体；外部管道，所述外部管道包围所述内部管道，冷却所述内部管道内的反应气体的冷却液通过所述外部管道流动；以及注入管道，所述注入管道将所述内部管道内的反应气体注入到所述外部管道的外部。

专利地区：韩国