作为NK-3受体拮抗剂的吡咯烷衍生物专利登记公告

专利名称：作为NK-3受体拮抗剂的吡咯烷衍生物

摘要：本申请涉及式(I)的化合物，在式(I)中，R1是氢，卤素，氰基，低级烷基或卤素取代的低级烷基；n是1，2或3，如果n是2或3，则R1可以是不同的；R2是C2-7-烷基或C3-6-环烷基；R3是基团(II)，其中X是CH或N；R5是氢，-C(O)-低级烷基，-C(O)O-低级烷基，S(O)2-低级烷基，-C(O)CH2O-低级烷基，-C(O)-CH2-CN，或是-C(O)-环烷基，环烷基或-CH2-环烷基，其中所述环烷基任选被低级烷基，-CH2-O-低级烷基，低级烷氧基，CF3，卤素或氰基取代，或是-C(O

专利类型：发明专利

专利号：CN201080057625.1

专利申请（专利权）人：霍夫曼-拉罗奇有限公司

专利发明（设计）人：亨纳·努斯特;安德烈亚斯·克布雷特;马蒂亚斯·内特科文;哈萨内·拉特尼;克劳斯·里默尔;沃特·维凡

主权项：式I的化合物其中R1是氢，卤素，氰基，低级烷基或卤素取代的低级烷基；n是1，2或3，如果n是2或3，则R1可以是不同的；R2是C2?7?烷基或C3?6?环烷基；R3是以下基团其中X是CH或N；R5是氢，?C(O)?低级烷基，?C(O)O?低级烷基，S(O)2?低级烷基，?C(O)CH2O?低级烷基，?C(O)?CH2?CN，或是?C(O)?环烷基，环烷基或?CH2?环烷基，其中所述环烷基任选被低级烷基，?CH2?O?低级烷基，低级烷氧基，CF3，卤素或氰基取代，或是?C(O)?杂环烷基或杂环烷基，或是?C

专利地区：瑞士