粉粒产生少的溅射靶及该靶的制造方法专利登记公告

专利名称：粉粒产生少的溅射靶及该靶的制造方法

摘要：本发明涉及粉粒产生少的溅射靶，其特征在于，在富有延性的基质相内以1~50%的体积比率存在金属间化合物、氧化物、碳化物、碳氮化物、其它无延性的物质的靶表面中缺陷面积率为0.5%以下；还涉及该靶的制造方法。本发明提供可以改善存在大量无延性的物质的靶表面，可以防止或抑制溅射时结瘤或粉粒产生的溅射靶及其表面加工方法。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080058141.9

专利申请（专利权）人：吉坤日矿日石金属株式会社

专利发明（设计）人：小出启

主权项：一种粉粒产生少的溅射靶，其特征在于，在富有延性的基质相内以1~50%的体积比率存在金属间化合物、氧化物、碳化物、碳氮化物、其它无延性的物质的靶表面中，缺陷面积率为0.5%以下。

专利地区：日本