半透膜及其制造方法专利登记公告

专利名称：半透膜及其制造方法

摘要：本发明提供一种半透膜，所述半透膜至少具有分离功能层，偶氮化合物被保持在该分离功能层中，且该分离功能层的黄色度为10以上至40以下。本发明还提供该半透膜的制造方法。本发明提供半透膜及其制造方法，所述半透膜具有高透水性，且对硼酸之类在中性区域中不解离的物质也具有高阻止性能，并且显示出高耐久性。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080058968.X

专利申请（专利权）人：东丽株式会社

专利发明（设计）人：高木健太朗;光畑智子;佐佐木崇夫;井上岳治;吉野孝;高谷清彦;铃木祐太郎

主权项：一种半透膜，所述半透膜至少具有分离功能层，偶氮化合物被保持在所述分离功能层中，且所述分离功能层的黄色度为10以上至40以下。

专利地区：日本