环烷二羧酸单酯的制造方法专利登记公告

专利名称：环烷二羧酸单酯的制造方法

摘要：一种环烷二羧酸单酯的制造方法，其特征在于，包含：利用Z表示的基团对式（1-A）表示的化合物的2个羧基（-COOH）进行保护来获得式（2-A）表示的化合物的第一工序，和利用酸对第一工序中得到的式（2-A）表示的化合物的Z表示的基团中的任一个进行脱保护来获得式（3-A）表示的化合物的第二工序。（式中，m表示0~3的整数，p表示0或者1，Z表示甲硫基甲基等，R5、R6和R7各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~8的烷基、碳原子数为1~8的烷氧基、苯基或者苄基）。

专利类型：发明专利

专利号：CN201080060034.X

专利申请（专利权）人：住友化学株式会社

专利发明（设计）人：大川春树

主权项：一种环烷二羧酸单酯的制造方法，其特征在于，包含：利用Z表示的基团对式（1?A）表示的化合物的2个羧基即?COOH进行保护来获得式（2?A）表示的化合物的第一工序，以及利用酸对第一工序中得到的式（2?A）表示的化合物的Z表示的基团中的任一个进行脱保护来获得式（3?A）表示的化合物的第二工序；式中，m表示0~3的整数，p表示0或者1，Z表示甲硫基甲基即?CH2?SCH3、甲氧基甲基、乙氧基甲基、叔丁氧基甲基、（4?戊烯基氧基）甲基、（2?甲氧基乙氧基）甲基、1?乙氧基乙基、苄氧基甲基、4?甲氧基苄氧基甲基、2

专利地区：日本