粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置专利登记公告

专利名称：粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置

摘要：本发明的目的在于获得消除扫描电磁铁的磁滞影响、且在光栅扫描、混合扫描中实现高精度射束照射的粒子射线照射装置。包括：扫描电源(4)，该扫描电源(4)输出扫描电磁铁(3)的励磁电流；以及照射控制装置(5)，该照射控制装置(5)控制扫描电源(4)，照射控制装置(5)包括扫描电磁铁指令值学习生成器(37)，该扫描电磁铁指令值学习生成器(37)对预扫描的结果进行评价，在评价的结果不满足规定的条件的情况下，更新励磁电流的指令值(Ik)，来执行预扫描，将评价的结果满足规定的条件的励磁电流的指令值(Ik)输出到扫描电源(

专利类型：发明专利

专利号：CN201080060087.1

专利申请（专利权）人：三菱电机株式会社

专利发明（设计）人：岩田　高明

主权项：一种粒子射线照射装置，包括：扫描电磁铁，该扫描电磁铁使得由加速器进行了加速的带电粒子束进行扫描，具有磁滞；扫描电源，该扫描电源输出驱动所述扫描电磁铁的励磁电流；以及照射控制装置，该照射控制装置控制所述扫描电源，其特征在于，所述照射控制装置包括扫描电磁铁指令值学习生成器，该扫描电磁铁指令值学习生成器对预扫描的结果进行评价，在所述评价的结果不满足规定的条件的情况下，更新所述励磁电流的指令值，来执行所述预扫描，将所述评价的结果满足规定的条件的所述励磁电流的指令值输出到所述扫描电源，所述预扫描是基于由所述扫描电源

专利地区：日本