大高宽比光子筛及其制备方法专利登记公告

专利名称：大高宽比光子筛及其制备方法

摘要：本发明公开了一种大高宽比光子筛及其制备方法。该大高宽比光子筛，包括衬底和光子筛柱。其中：衬底包括光子筛区域和边缘区域，边缘区域对预设波长的光不透明，光子筛区域除光子筛柱所在的区域外对预设波长的光透明；光子筛柱，为近似圆柱形，位于光子筛区域中对应于菲涅尔波带片亮环的位置，对预设波长的光不透明。本发明可以高效率地控制高宽比，从而可以更好的制作位相型或者振幅型光子筛。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110021380.3

专利申请（专利权）人：中国科学院微电子研究所

专利发明（设计）人：谢常青;辛将;朱效立;潘一鸣;刘明

主权项：一种大高宽比光子筛，其特征在于，该光子筛包括衬底和光子筛柱，其中：所述衬底包括光子筛区域和边缘区域，所述边缘区域对预设波长的光不透明，所述光子筛区域除所述光子筛柱所在的区域外对所述预设波长的光透明；所述光子筛柱，为近似圆柱形，位于所述光子筛区域中对应于菲涅尔波带片亮环的位置，对所述预设波长的光不透明。

专利地区：北京