一种研磨垫及其制备方法、使用方法专利登记公告
专利名称:一种研磨垫及其制备方法、使用方法
摘要:一种研磨垫,包括:基底和固结在所述基底上的若干分立的磨料块,所述磨料块具有至少两种高度。本发明利用具有至少两种高度的磨料块,使得研磨垫在研磨晶圆的过程中,不会因为长时间的研磨导致研磨速率大幅下降,从而使得晶圆的研磨程度易于精确控制,提高了晶圆研磨的效果及良率。本发明还提供一种制备所述研磨垫的方法,利用该方法可以方便地制备本发明的研磨垫。相应地,本发明还提供应用所述研磨垫进行研磨的使用方法。
专利类型:发明专利
专利号:CN201110023424.6
专利申请(专利权)人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
专利发明(设计)人:邵群
主权项:一种研磨垫,包括:基底和固结在所述基底上的若干分立的磨料块,其特征在于,所述磨料块具有至少两种高度。
专利地区:上海
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