一种新型的真空纳米技术涂膜设备专利登记公告
专利名称：一种新型的真空纳米技术涂膜设备
摘要：本发明公开了一种新型的真空纳米技术涂膜设备，包括机箱、加热炉、沉积桶和承托架组成，所述的加热炉、沉积桶和承托架用金属管连接，在所连接接口处设置有连接法兰并用扣环固定，其特征在于所述的沉积桶的桶口采用大用沉积桶的透明玻璃作为沉积桶盖，所述的沉积桶盖跟沉积桶用合页连接，所所述的沉积桶盖跟沉积桶用还可以用钩锁或卡扣连接。采用了大于沉积桶的透明玻璃作为沉积桶的盖子，在加工时可以随时刚擦其工作过程，发现问题能够得到及时的处理。
专利类型：发明专利
专利号：CN201110033622.0
专利申请（专利权）人：刘芝庆
专利发明（设计）人：刘芝庆
主权项：一种新型的真空纳米技术涂膜设备，包括机箱、加热炉、沉积桶和承托架组成，所述的加热炉、沉积桶和承托架用金属管连接，在所连接接口处设置有连接法兰并用扣环固定，其特征在于所述的沉积桶的桶口采用大用沉积桶的透明玻璃作为沉积桶盖，所述的沉积桶盖跟沉积桶用合页连接。
专利地区：广东
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