场发射灯专利登记公告

专利名称：场发射灯

摘要：本发明涉及一种场发射灯，是关于一种可通过设置一透镜单元的方式提高其所发出的光线的均匀性，且可通过于其外壳部的部分内侧表面上形成其阳极部的方式提高其发光效率的场发射灯。其包括：一外壳部，具有一内侧表面；一阳极部，形成于此外壳部的部分此内侧表面；一阴极部，被此外壳部包围于其中；一发光层，形成于此阳极部的部分表面上；以及一透镜单元，邻近于此外壳部的未形成此阳极部于其上的部分此内侧表面。其中，此发光层因电子撞击而产生的光线是通过此透镜单元及此外壳部的未形成此阳极部于其上的部分此内侧表面，而射出此场发射灯。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110038250.0

专利申请（专利权）人：大同股份有限公司

专利发明（设计）人：杨宗翰

主权项：一种场发射灯，包括：一外壳部，具有一内侧表面；一阳极部，形成于该外壳部的部分该内侧表面；一阴极部，是被该外壳部包围于其中；一发光层，形成于该阳极部的部分表面上；以及一透镜单元，邻近于该外壳部的未形成该阳极部于其上的部分该内侧表面；其中，该发光层因电子撞击而产生的光线是通过该透镜单元及该外壳部的未形成该阳极部于其上的部分该内侧表面，而射出该场发射灯。

专利地区：台湾