形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法专利登记公告

专利名称：形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法

摘要：本发明提供了一种形成石墨烯氧化物图案及其石墨烯图案的方法，该方法按照以下(A)和(B)两种方式之一进行：(A)将石墨烯氧化物溶液与图案化聚二甲氧基硅烷印章接触1-500min，干燥；然后将干燥后的图案化聚二甲氧基硅烷印章与基底在外力为0-5N的条件下接触1-500min，移开印章，从而在基底上形成石墨烯氧化物图案；(B)将图案化聚二甲氧基硅烷印章与连接剂接触，然后与基底在外力为0-5N的条件下接触，移开印章，得到接触后的基底；将接触后的基底与石墨烯氧化物溶液接触，干燥，从而在基底上形成石墨烯氧化物图案。本

专利类型：发明专利

专利号：CN201110052417.9

专利申请（专利权）人：国家纳米科学中心

专利发明（设计）人：韩宝航;王涛;吴冲;周鼎;承倩怡;孙树清

主权项：一种形成石墨烯氧化物图案的方法，该方法按照以下(A)和(B)两种方式之一进行：(A)将石墨烯氧化物溶液与图案化聚二甲氧基硅烷印章接触，干燥；然后将干燥后的图案化聚二甲氧基硅烷印章与基底在外力为0?5N的条件下接触1?500min，移开印章，从而在基底上形成石墨烯氧化物图案；(B)将图案化聚二甲氧基硅烷印章与连接剂接触，然后与基底在外力为0?5N的条件下接触1?500min，移开印章，得到接触后的基底；将接触后的基底与石墨烯氧化物溶液接触，干燥，从而在基底上形成石墨烯氧化物图案；其中，所述连接剂为3?氨丙基

专利地区：北京