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铝合金两酸抛光用添加剂专利登记公告


专利名称:铝合金两酸抛光用添加剂

摘要:本发明提供一种铝合金两酸抛光用添加剂,应用于对铝合金的两酸化学抛光中,其特征在于,该添加剂以水为溶剂,每升该添加剂溶液主要包括:聚二硫二丙烷磺10~20g;硫基苯并咪唑2~4g;乙撑硫脲1~3g;氢氧化钾2~3g。相较于现有技术,本发明提供的一种铝合金两酸抛光用添加剂,其添加于磷酸及硫酸配合的抛光液中使用,在对铝合金进行化学抛光的过程中避免了使用硝酸作为缓蚀剂所产生的危害,符合环保要求;降低了铝合金进行化学抛光的处理温度,能耗较少,抛光效果达到了普通三酸抛光液的抛光效果。

专利类型:发明专利

专利号:CN201110056127.1

专利申请(专利权)人:汉达精密电子(昆山)有限公司

专利发明(设计)人:陈其亮

主权项:一种铝合金两酸抛光用添加剂,应用于对铝合金的两酸化学抛光中,其特征在于,以水为溶剂,每升该添加剂溶液主要包括:FDA0000049453690000011.tif

专利地区:江苏