多孔纳米二氧化硅减反射膜的制备方法专利登记公告

专利名称：多孔纳米二氧化硅减反射膜的制备方法

摘要：本发明公开了一种多孔纳米二氧化硅减反射膜的制备方法，其包括抛光、裂纹和造孔。本发明的方法利用氟硅酸的二氧化硅饱和溶液对玻璃表面进行选择性浸蚀，将玻璃表面反射率较高的氧化钙、氧化钠以及金属氧化物进行有选择的浸蚀，在玻璃表面形成一层多孔纳米二氧化硅减反射膜，从而达到降低玻璃反射率提高玻璃透过率的目的。由该工艺生产的玻璃透过率可提高2～5％，具有明显的增透效果，另外该工艺生产的玻璃透具有显著的防眩作用，能够对人眼起到很好的保护。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110059381.7

专利申请（专利权）人：北京市太阳能研究所有限公司

专利发明（设计）人：谢光明;张英超;王启

主权项：一种多孔纳米二氧化硅减反射膜的制备方法，其特征在于，包括步骤：S1、首先进行抛光，包括：S11、水洗：用清水将玻璃表面反复清洗至玻璃表面无污物；S12、醇洗：将经步骤S11处理过的玻璃浸没在无水乙醇中，用超声波清洗5～10分钟，然后将玻璃表面醇液吹干；S13、酸洗：将经步骤S12处理过的玻璃浸没在含有HF或H2SiF6的酸液中，在温度20～30℃清洗1～12分钟；S2、进行裂纹，包括：将经步骤S1处理过的玻璃浸没在包括0.5～1wt‰的HF、0.5～1wt‰的NH4HF2混合溶液进行裂纹，裂纹温度为45～

专利地区：北京