一种多晶硅还原炉内衬涂层及其制造方法专利登记公告

专利名称：一种多晶硅还原炉内衬涂层及其制造方法

摘要：本发明涉及一种应用于多晶硅还原炉炉体内侧炉壁涂层(简称内衬涂层)以及该涂层的制造方法，具体的是改良西门子法多晶硅还原炉内衬防腐蚀红外反射涂层。所述涂层系金属陶瓷材料，在改良西门子法多晶硅还原炉炉体内侧炉壁上直接涂敷。采用的涂敷方法为物理气相沉积法或者化学气相沉积法。所述多晶硅还原炉内衬涂层的厚度为1-10微米，制造成本低，对炉壁的附着力强。该涂层耐高温，耐强酸强碱腐蚀，耐机械冲击和刮削，红外反射效率高，使用寿命长，可以有效降低改良西门子法多晶硅还原炉内热能向炉外传递的损失。该涂层取代纯金红外反射涂层，因而

专利类型：发明专利

专利号：CN201110060199.3

专利申请（专利权）人：胡倾宇

专利发明（设计）人：胡倾宇

主权项：一种用于多晶硅还原炉炉体内侧炉壁涂层(以下简称内衬涂层)及其制备方法，所述内衬涂层其特征在于：(1)是一种金属陶瓷涂层，或(2)是几层不同种类的金属陶瓷涂层的组合。所述金属陶瓷涂层由物理气相沉积(PVD)或者化学气相沉积法(CVD)制备。

专利地区：上海