一种超材料成像系统专利登记公告

专利名称：一种超材料成像系统

摘要：本发明公开了一种超材料成像系统，包括从发射源到接收天线依次包括第一超材料透镜、待成像区域以及第二超材料透镜，所述第一超材料透镜以及第二超材料透镜均存在一区段，所述区段的中部各单元的等效介电常数ε与等效磁导率μ之乘积为最高值，其它各单元的等效介电常数ε与等效磁导率μ乘积值从小到大呈渐变趋势，且，其所述渐变趋势向所述最高值所在的单元趋近，发射源发射的电磁波经所述的第一超材料透镜汇聚后输入至所述的待成像区域，所述待成像区域将汇聚过的电磁波再散射入所述的第二超材料透镜，所述的第二超材料透镜汇聚所述散射过的电磁波后

专利类型：发明专利

专利号：CN201110061803.4

专利申请（专利权）人：深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司

专利发明（设计）人：刘若鹏;石小红;徐冠雄;张洋洋

主权项：一种超材料成像系统，其特征在于，从发射源到接收天线依次包括第一超材料透镜、待成像区域以及第二超材料透镜，所述第一超材料透镜以及第二超材料透镜均存在一区段，所述区段的中部各单元的等效介电常数ε与等效磁导率μ之乘积为最高值，其它各单元的等效介电常数ε与等效磁导率μ乘积值从小到大呈渐变趋势，且，其所述渐变趋势向所述最高值所在的单元趋近，物体发射的电磁波经所述的第一超材料透镜汇聚后输入至所述的待成像区域，所述待成像区域将汇聚过的电磁波再散射入所述的第二超材料透镜，所述的第二超材料透镜汇聚所述散射过的电磁波后输出至

专利地区：广东