一种研磨垫清洗方法和装置专利登记公告
专利名称:一种研磨垫清洗方法和装置
摘要:本发明公开了一种研磨垫清洗方法和装置。其中,所述方法包括:对每片晶圆执行化学机械平坦化操作之后,利用加热后的离子水冲洗研磨垫;同时,利用研磨垫修正器对所述研磨垫表面执行打磨操作。通过本发明实施例,可以改善研磨垫表面的清洗效果。
专利类型:发明专利
专利号:CN201110066718.7
专利申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
专利发明(设计)人:杨涛;赵超;李俊峰
主权项:一种研磨垫清洗方法,其特征在于,包括:对每片晶圆执行化学机械平坦化操作之后,利用加热后的离子水冲洗研磨垫;同时,利用研磨垫修正器对所述研磨垫表面执行打磨操作。
专利地区:北京
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