聚吡咯纳米线及其制备方法和用途专利登记公告

专利名称：聚吡咯纳米线及其制备方法和用途

摘要：本发明公开了一种聚吡咯纳米线及其制备方法和用途。纳米线为线状聚吡咯外修饰有2-胍啶苯并咪唑，其线直径为25～35nm、线长为10～80μm；方法为使用二次阳极氧化法获得通孔氧化铝模板后，先于模板的一面蒸镀金膜，再将其置于2-胍啶苯并咪唑的乙醇溶液中浸泡至少2h后，使用乙醇清洗掉模板表面的2-胍啶苯并咪唑，得到孔内壁上覆有2-胍啶苯并咪唑的模板，随后，先将一面覆有金膜、孔内壁上覆有2-胍啶苯并咪唑的模板置于吡咯乙醇水溶液中，以其为阳极、石墨为阴极，于直流电压下电沉积2～8h，得到一面覆有金膜、孔中置有聚吡咯

专利类型：发明专利

专利号：CN201110066952.X

专利申请（专利权）人：中国科学院合肥物质科学研究院

专利发明（设计）人：王美玲;孟国文;黄青;刘国冬

主权项：一种聚吡咯纳米线，包括聚吡咯，其特征在于：所述聚吡咯为线状，所述线状聚吡咯外修饰有2?胍啶苯并咪唑；所述其外修饰有2?胍啶苯并咪唑的聚吡咯的线直径为25～35nm、线长为10～80μm。

专利地区：安徽