利用超临界流体转印薄膜至工件的方法与转印系统专利登记公告
专利名称:利用超临界流体转印薄膜至工件的方法与转印系统
摘要:本发明公开一种利用超临界流体转印薄膜至工件的方法与转印系统。该方法包含有将一工件设置于一第一模腔内且设置一转印薄膜于该工件上;闭合该第一模腔与一第二模腔,且通入压力大于一临界压力的加压气体于该第一模腔与该第二模腔内;使该加压气体的温度大于一临界温度,以使其达到超临界流体状态;该超临界流体软化该转印薄膜;该转印薄膜的一粘着层、一印刷层、以及一硬化层转印至该工件上;以及开启该第一模腔与该第二模腔以取出该工件。
专利类型:发明专利
专利号:CN201110085049.8
专利申请(专利权)人:纬创资通股份有限公司
专利发明(设计)人:陈建玮;许进福
主权项:一种利用超临界流体(supercritical?fluid)转印薄膜至工件的方法,其包含有:将一工件设置于一第一模腔内且设置一转印薄膜于该工件上;闭合该第一模腔与一第二模腔,且通入压力大于一临界压力的加压气体于该第一模腔与该第二模腔内;使该加压气体的温度大于一临界温度,以使其达到超临界流体状态;该超临界流体软化该转印薄膜;该转印薄膜的一粘着层、一印刷层、以及一硬化层转印至该工件上;以及开启该第一模腔与该第二模腔以取出该工件。
专利地区:台湾
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。