真空对盒设备及对盒方法专利登记公告

专利名称：真空对盒设备及对盒方法

摘要：本发明实施例公开了一种真空对盒设备及对盒方法，涉及液晶面板制造领域，实现了对液晶扩散过程的实时监测。本发明实施例的真空对盒设备，包括：上基板、信号处理装置、以及与所述上基板相对设置的下基板，其特征在于，所述上基板上设置有发光装置，所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有光敏接收单元阵列，所述光敏接收单元阵列与所述信号处理装置相连接，所述信号处理装置用于将来自所述光敏接收单元阵列的电信号转换为液晶扩散模拟图像。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110218358.8

专利申请（专利权）人：北京京东方光电科技有限公司

专利发明（设计）人：陈柄宇;唐欢;董廷泽;刘英

主权项：一种真空对盒设备，包括：上基板、信号处理装置、以及与所述上基板相对设置的下基板，其特征在于，所述上基板上设置有发光装置，所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有光敏接收单元阵列，所述光敏接收单元阵列与所述信号处理装置相连接，所述信号处理装置用于将来自所述光敏接收单元阵列的电信号转换为液晶扩散模拟图像。

专利地区：北京