真空对盒设备及对盒系统专利登记公告

专利名称：真空对盒设备及对盒系统

摘要：本发明实施例公开了一种真空对盒设备及对盒系统，涉及液晶面板制造领域，实现了对液晶扩散过程的实时监测。本发明实施例的真空对盒设备，包括：上基板、与所述上基板相对设置的下基板和信号处理装置，所述上基板的与所述下基板相对的面上设置有电极片，所述电极片覆盖整个所述上基板，所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有电极阵列，所述电极阵列的多个电极单元与所述信号处理装置相连接。本发明实施例的对盒系统，能够根据所述液晶扩散模拟图像调整对盒的工艺参数。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110218359.2

专利申请（专利权）人：北京京东方光电科技有限公司

专利发明（设计）人：陈柄宇;唐欢;刘英;张千

主权项：一种真空对盒设备，包括：上基板、与所述上基板相对设置的下基板和信号处理装置，其特征在于，所述上基板的与所述下基板相对的面上设置有电极片，所述电极片覆盖整个所述上基板，所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有电极阵列，所述电极阵列的多个电极单元与所述信号处理装置相连接。

专利地区：北京