一种阵列波导光栅实现均匀偏振补偿的方法专利登记公告

专利名称：一种阵列波导光栅实现均匀偏振补偿的方法

摘要：本发明公开了一种阵列波导光栅实现均匀偏振补偿的方法。该光程差由阵列波导区和平板波导区的光程差共同决定，采用对阵列波导区中的两种偏振态使用不同的衍射级次并结合平板波导区的几何双折射性质来补偿阵列波导区的几何双折射性质。平板波导区与阵列波导区的几何形状由所选波导材料、波导结构和对各通道波长的偏振色散要求共同决定。本发明实现了对阵列波导光栅各输出通道波长的均匀偏振色散补偿，解决偏振色散补偿方法不能实现的均匀偏振色散补偿和造成的器件性能变差，结构复杂等问题，该方法适用于具有双折射的各种波导材料和各种波导结构的阵列波导光栅，特别适用于具有较大几何双折射的硅纳米线阵列波导光栅，具有制作简单、成本低等优点。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110219194.0

专利申请（专利权）人：浙江大学

专利发明（设计）人：何建军;邹俊;郎婷婷

主权项：一种阵列波导光栅实现均匀偏振补偿的方法，光从输入波导(1)依次通过输入平板波导区(2)、阵列波导区(3)和输出平板波导区(4)传播至输出波导(5)时经过阵列波导区(3)中相邻两波导所对应的总光程差由输入平板波导区(2)、阵列波导区(3)和输出平板区(4)中的光程差共同决定；其特征在于：输入平板波导区(2)、阵列波导区(3)和输出平板波导区(4)的各自的两偏振态模式之间均存在双折射差异；阵列波导区(3)中的两种偏振态使用不同衍射级次后，余下的偏振波长漂移由输入平板波导区(2)和输出平板波导区(4)共同补偿；输入平板波导区(2)和输出平板波导区(4)的波导上包层材料的选取由阵列波导区(3)中的波导材料、波导结构和设计中对偏振色散补偿的要求共同决定；输入平板波导区(2)、输出平板波导区(4)和阵列波导区(3)的几何形状由阵列波导区(3)中的波导材料、波导结构和设计中对偏振色散补偿的要求共同决定，从而达到对阵列波导光栅各输出通道波长的均匀偏振色散补偿要求。

专利地区：浙江