非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液专利登记公告

专利名称：非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液

摘要：本发明实施例公开了一种非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液，为提高光刻胶显影液的显影性而发明。本发明公开的非离子表面活性剂，为具有结构式1的物质；结构式1：在结构式1中：R1代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素，R2代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素；n1为5至20的整数；n2为4至15的整数；m1为5至23的整数；m2为4至18的整数。本发明可用于光刻胶显影液中。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110260842.7

专利申请（专利权）人：京东方科技集团股份有限公司

专利发明（设计）人：李琳

主权项：一种非离子表面活性剂，其特征在于，所述非离子表面活性剂为具有结构式1的物质；结构式1：在结构式1中：R1代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素，R2代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素；n1为5至20的整数；n2为4至15的整数；m1为5至23的整数；m2为4至18的整数。FDA0000089078950000011.tif

专利地区：北京