用于化学气相沉积的装置专利登记公告

专利名称：用于化学气相沉积的装置

摘要：本发明公开了一种用于化学气相沉积的装置。本发明的一个方面提供了一种用于化学气相沉积的装置，包括：被构造成界定反应空间的工艺室；背板，位于反应空间上方且在背板中间具有气体入口；气体扩散部件，设置在气体入口下方且与气体入口分离，通过第一耦合部件耦合到背板并被配置成扩散经由气体入口提供的工艺气体；喷头，设置在背板和气体扩散部件下方且与背板和气体扩散部件分离，喷头的中间部分通过第二耦合部件耦合到气体扩散部分，喷头具有穿孔其中的多个喷洒孔；和基座，设置在喷头下方且与喷头分离，且支撑基板。该气体扩散部件具有垂直穿透气

专利类型：发明专利

专利号：CN201110280169.3

专利申请（专利权）人：SNT能源技术有限公司

专利发明（设计）人：许闰成;朴胜一

主权项：一种用于化学气相沉积的装置，包括：工艺室，所述工艺室被构造成界定反应空间；背板，所述背板被设置在反应空间上方，且在所述背板的中间具有气体入口；气体扩散部件，所述气体扩散部件被设置在气体入口下方且与所述气体入口分离，所述气体扩散部件通过第一耦合部件耦合到背板，和所述气体扩散部件被配置成扩散经由气体入口提供的工艺气体；喷头，所述喷头被设置在背板和气体扩散部件下方且与所述背板和气体扩散部件分离，所述喷头的中间部分通过第二耦合部件耦合到气体扩散部件，且所述喷头中穿孔形成有多个喷洒孔；和基座，所述基座被设置在喷头下

专利地区：韩国