基板处理装置以及基板处理方法专利登记公告

专利名称：基板处理装置以及基板处理方法

摘要：本发明提供一种在一边搬运基板并一边对该基板加热的基板处理装置以及基板处理方法中提高基板的热均匀性的技术。在基板(9)的前端面通过高温加热板(11)的上游侧端部时，将基板(9)的前端面附近的高度切换到搬运位置(下降位置)的上方即上方位置。之后，在搬运位置来搬运基板(9)，在基板(9)的后端面通过高温加热板(11)的下游侧端部时，再将基板(9)的后端面附近的高度切换到上方位置。其结果，基板(9)的前端面以及后端面以难以受到来自高温加热板(11)的热量的影响的状态被搬运。因此，可以抑制从高温加热板(11)赋予基

专利类型：发明专利

专利号：CN201110294467.8

专利申请（专利权）人：大日本网屏制造株式会社

专利发明（设计）人：安陪裕滋;山冈英人;芳谷光明

主权项：一种基板处理装置，一边从上游侧向下游侧搬运基板，一边对该基板进行加热，其特征在于，具有：加热部，其对基板进行加热，搬运机构，其沿着所述加热部搬运基板；所述搬运机构具有切换单元，该切换单元用于将所述基板和所述加热部之间的距离至少在第一距离和比所述第一距离大的第二距离的两个阶段之间进行切换；在所述基板的前端部通过所述加热部的规定的加热区域的上游侧端部时，所述切换单元将所述基板和所述加热部之间的距离切换为所述第二距离。

专利地区：日本