触摸感应器的制造方法及显示设备专利登记公告

专利名称：触摸感应器的制造方法及显示设备

摘要：本发明实施例公开了一种触摸感应器的制造方法及显示设备，属于触摸屏技术领域。解决了现有的触摸感应器的制造过程复杂，生产效率低的技术问题。该制造方法，包括利用灰阶掩膜工艺对光刻胶曝光和显影，光刻胶形成为完全去除区域、完全保留区域和部分保留区域；对与光刻胶的完全去除区域对应的绝缘层进行刻蚀，露出电极层；对电极层进行过刻蚀，使电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进，形成电极和Y方向连线部分的图案；对光刻胶进行灰化处理去除部分保留区域的光刻胶；对露出的绝缘层进行刻蚀；去除完全保留区域的光刻胶；在绝缘层上形成导电桥

专利类型：发明专利

专利号：CN201110304953.3

专利申请（专利权）人：京东方科技集团股份有限公司

专利发明（设计）人：林允植

主权项：一种触摸感应器的制造方法，其特征在于，包括：在基板上形成电极层；在所述电极层上形成绝缘层；在所述绝缘层上涂覆光刻胶；利用灰阶掩膜工艺对所述光刻胶曝光和显影，所述光刻胶形成为完全去除区域、完全保留区域和部分保留区域；对与光刻胶的完全去除区域对应的所述绝缘层进行刻蚀，露出电极层；对所述电极层进行过刻蚀，使电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进，形成电极和Y方向连线部分的图案；对光刻胶进行灰化处理去除部分保留区域的光刻胶；对露出的所述绝缘层进行刻蚀；去除所述完全保留区域的光刻胶；在所述绝缘层上形成导电桥。

专利地区：北京