防水膜的形成方法、防水膜、喷墨头的喷嘴板专利登记公告

专利名称：防水膜的形成方法、防水膜、喷墨头的喷嘴板

摘要：本发明公开了一种形成防水膜的方法，包括：薄膜形成步骤，其使用在常温和大气压下为气体的原材料在基础部件上形成薄膜，该薄膜主要具有Si-O键并且具有直接与硅结合的疏水性取代基；照射步骤，其中用激发光照射在所述薄膜形成步骤中获得的所述薄膜，使得所述疏水性取代基保留并且所述薄膜中存在OH基；和施加步骤，其中将硅烷偶联剂施加到所述照射步骤中获得的所述薄膜上。该方法能够廉价地制造防水膜，而不需要包括昂贵热蒸发器的等离子聚合装置。本发明还涉及由该方法形成的防水膜、以及形成有该防水膜的喷墨头的喷嘴板。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110330981.2

专利申请（专利权）人：富士胶片株式会社

专利发明（设计）人：新川高见

主权项：一种形成防水膜的方法，该方法包括：薄膜形成步骤，其中使用在常温和大气压下为气体的原材料在基础部件上形成薄膜，该薄膜主要具有Si?O键并且具有直接与硅结合的疏水性取代基；照射步骤，其中用激发光照射在所述薄膜形成步骤中获得的所述薄膜，使得所述疏水性取代基保留并且所述薄膜中存在OH基；和施加步骤，其中将硅烷偶联剂施加到所述照射步骤中获得的所述薄膜上。

专利地区：日本