产生掩模数据的方法、制造掩模的方法和曝光方法专利登记公告

专利名称：产生掩模数据的方法、制造掩模的方法和曝光方法

摘要：本申请涉及产生掩模数据的方法、制造掩模的方法和曝光方法。掩模包括用于解析将形成在衬底上的目标图案的主图案和不进行解析的辅助图案。设置主图案和辅助图案的参数的值。计算在通过投射光学系统投射由主图案和辅助图案的参数值确定的主图案和辅助图案的情况下形成的图像。基于通过修改主图案和辅助图案的参数值而执行的计算的结果，确定主图案和辅助图案的参数值，以产生包括所确定的主图案和辅助图案的掩模的数据。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110333535.7

专利申请（专利权）人：佳能株式会社

专利发明（设计）人：石井弘之;辻田好一郎

主权项：一种通过计算机产生将在曝光装置中使用的掩模的数据的方法，所述曝光装置使用用于将所述掩模的图案的图像投射到衬底上的投射光学系统使衬底曝光，其中，所述掩模包括用于解析将形成在衬底上的目标图案的主图案和不进行解析的辅助图案，以及所述方法包括以下步骤：设置所述主图案的参数的值和所述辅助图案的参数的值；计算在通过使用所述投射光学系统投射分别由所述主图案和辅助图案的参数的设置值确定的所述主图案和辅助图案的情况下形成的图像；和基于通过修改所述主图案的参数的值和所述辅助图案的参数的值而执行的计算的结果来确定所述主图案的参

专利地区：日本