用于改善焦线均匀度的柱面透镜列阵的设计方法专利登记公告

专利名称：用于改善焦线均匀度的柱面透镜列阵的设计方法

摘要：一种用于改善焦线均匀度的柱面透镜列阵的设计方法，采用了非时齐模拟退火算法，改变经典柱面透镜列阵设计上各列阵元结构的一致性，使得新型的柱面透镜列阵由宽度、焦距不等的柱面透镜列阵元组成。本发明设计的子列阵元宽度、焦距保持焦面处的子焦线长度一致，最终这些子焦线在焦面处的迭加得到一个强度分布近乎平顶的焦线，从而实现焦线的空间强度分布均匀化。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110342353.6

专利申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所

专利发明（设计）人：张琥杰;周申蕾;鄔融;林尊琪

主权项：一种用于改善焦线均匀度的柱面透镜列阵的设计方法，其特征在于该方法包括下列步骤：①确定入射光空间光强分布A(x，y)，工作波长λ，聚焦透镜焦距F，柱面透镜列阵的宽度D，目标焦线长度L；②选定柱面透镜阵列元序列宽度为优化变量，焦线均匀度为优化目标函数；③设定柱面透镜列阵的单元数N，N的通常取值范围为5～8；④柱面透镜列阵元的初始宽度di＝D/N，焦距fi＝Fdi/L，设定阵列元排列方向为x方向；柱面透镜初始位相函数为： Φ

专利地区：上海