一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法专利登记公告

专利名称：一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法

摘要：本发明涉及一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法，属于功能材料领域。该材料的化学式为C17H19N2O3F3S，室温下属于单斜晶系，其空间群为P21/C,晶胞参数为a=17.508(5)，b=7.607(2)，c=13.533(4)?，α=90.0°，β=93.712(6)°，γ=90.0°，Z=4，V=1798.4(10)?3。本发明的三阶非线性光学材料具有良好的热学稳定性、较大的非线性吸收效应和自散焦性质，且制备过程中所采用的原料易得、化学合成路线简单、

专利类型：发明专利

专利号：CN201110351131.0

专利申请（专利权）人：中国科学院福建物质结构研究所

专利发明（设计）人：罗军华;孙志华;陈天亮;洪茂椿

主权项：?一种有机三阶非线性光学材料4?(4?二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐，其特征在于：化学式为C17H19N2O3F3S，室温下属于单斜晶系，其空间群为P21/C,?晶胞参数为a?=?17.508(5)，b?=?7.607(2)，c?=?13.533(4)??，α?=?90.0°，β?=?93.712(6)°，γ?=?90.0°，Z?=?4，V?=?1798.4(10)??3。

专利地区：福建