稳定的、可浓缩的化学机械抛光组合物和抛光基材的方法专利登记公告

专利名称：稳定的、可浓缩的化学机械抛光组合物和抛光基材的方法

摘要：稳定的、可浓缩的化学机械抛光组合物和抛光基材的方法。一种化学机械抛光组合物，该组合物包括作为原始成分的下述组分：水；研磨剂；如式(I)的双季化物质；如式(II)的胍的衍生物；和任选地，季铵盐。同时，提供了一种化学机械抛光基材的方法，其包括：提供一种基材，其中所述基材包括二氧化硅；提供一种本发明的化学机械抛光组合物；提供一个化学机械抛光垫；在化学机械抛光垫和基材之间的界面建立动态接触；把化学机械抛光组合物分配至在化学机械抛光垫和基材之间的界面处或者邻近处的化学机械抛光垫上；其中化学机械抛光组合物的pH为2-

专利类型：发明专利

专利号：CN201110354333.0

专利申请（专利权）人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

专利发明（设计）人：刘振东;郭毅;K-A·K·雷迪;张广云

主权项：一种化学机械抛光组合物，所述组合物包括作为原始组分的下述组分：水；研磨剂；如式(I)的双季化物质：其中每个X独立地选自N和P；其中R1选自饱和的或者未饱和的C1?C15烷基、C6?C15芳基和C6?C15芳烷基；其中R2、R3、R4、R5、R6和R7各自独立地选自氢、饱和的或者未饱和的C1?C15烷基、C6?C15芳基、C6?C15芳烷基和C6?C15烷芳基；和其中式(I)的阴离子可以是平衡式(I)的阳离子上的2+电荷的任何阴离子或者阴离子的组合；如式(II)的胍的衍生物：其中R8选自氢、饱和的或者未饱和

专利地区：美国