构件以及制造和涂覆构件的方法专利登记公告

专利名称：构件以及制造和涂覆构件的方法

摘要：本发明涉及构件以及制造和涂覆构件的方法。公开了一种构件。该构件包括衬底，衬底包括外表面和内表面，其中，内表面限定至少一个中空内部空间，其中，外表面限定一个或多个凹槽，且其中，该一个或多个凹槽中的各个至少部分地沿着衬底的表面延伸且具有基部。一个或多个进入孔延伸通过相应的凹槽的基部，以将凹槽布置成与该至少一个中空内部空间中的相应的内部空间流体连通。该构件进一步包括设置在衬底表面的至少一部分上面的涂层，其中，涂层包括一个或多个层。层中的至少一个限定一个或多个可透过的槽口，使得相应的层不完全桥接该一个或多个凹槽中

专利类型：发明专利

专利号：CN201110371829.9

专利申请（专利权）人：通用电气公司

专利发明（设计）人：R·S·班克;D·M·格雷;D·M·利普金

主权项：一种构件(100)，包括：包括外表面(112)和内表面(116)的衬底(110)，其中，所述内表面(116)限定至少一个中空内部空间(114)，其中，所述外表面(112)限定一个或多个凹槽(132)，其中，所述一个或多个凹槽(132)中的各个至少部分地沿着所述衬底(110)的所述表面(112)延伸且具有基部(134)，其中，一个或多个进入孔(140)延伸通过所述一个或多个凹槽(132)中的相应的一个的所述基部(134)，以将所述凹槽(132)布置成与所述至少一个中空内部空间(114)中的相应的中空内部空间

专利地区：美国