用于射线摄影的栅格及其修补方法，以及射线成像系统专利登记公告

专利名称：用于射线摄影的栅格及其修补方法，以及射线成像系统

摘要：本发明涉及用于射线摄影的栅格及其修补方法，以及射线成像系统。在第二栅格中，沿Y方向延伸的X射线吸收部分和X射线透过部分交替地排列在X方向上。在制造第二栅格之后，在第二栅格中检测有缺陷的部分。沿X和Y方向设定所要切出的矩形区域，以便使其包含该有缺陷的部分。通过切出矩形区域，形成切出区。将小于切出区的微栅格装配在切出区中以使得所述微栅格的两个邻边与所述切出区的两个邻边接触。将留在切出区的轮廓和微栅格之间的空隙用Sn-Pb作为X射线吸收材料填充。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110380663.7

专利申请（专利权）人：富士胶片株式会社

专利发明（设计）人：金子泰久

主权项：一种射线摄影用栅格，所述射线摄影用栅格具有射线吸收部分和射线透过部分，所述射线吸收部分和所述射线透过部分沿第一方向延伸，并且在垂直于所述第一方向的第二方向上交替地排列，所述栅格包括：矩形切出区，所述矩形切出区是沿所述第一和第二方向切出的；以及微栅格，所述微栅格装配在所述切出区中。

专利地区：日本