一种合成超微孔二氧化硅的方法专利登记公告

专利名称：一种合成超微孔二氧化硅的方法

摘要：本发明涉及一种合成超微孔二氧化硅的方法，将4.50-5.50gN,N′-双十烷基二甲基-a,ω-乙烷溴化铵和1.50-2.00gNa2SiO3·9H2O分别溶于30.0ml的去离子水中，然后在室温、搅拌的情况下把两种物质迅速混合；静置10分钟后，在剧烈搅拌的情况下向上述混合液中逐滴滴入2mol/L的硫酸溶液，至pH为9-10之间；将混合液室温下静置4-6h，然后在80℃的烘箱中恒温70-73小时，得到的固体沉淀物经过滤、洗涤后在空气中晾干，得到复合产物；将复合产物以1.5℃/min的速度在空气中升温加热到

专利类型：发明专利

专利号：CN201110389027.0

专利申请（专利权）人：泰山医学院

专利发明（设计）人：王仁亮;朱延美;冀海伟;李莉;葛海燕

主权项：一种合成超微孔二氧化硅的方法，其特征在于：包括以下步骤：（1）将4.50?5.50gN,N′?双十烷基二甲基?a,ω?乙烷溴化铵和1.50?2.00gNa2SiO3·9H2O分别溶于30.0ml的去离子水中，然后在室温、搅拌的情况下把两种物质迅速混合；（2）静置10分钟后，在剧烈搅拌的情况下向上述混合液中逐滴滴入2mol/L的硫酸溶液，至pH为9?10之间；?（3）将混合液室温下静置4?6h，然后在80℃的烘箱中恒温70?73小时，得到的固体沉淀物经过滤、洗涤后在空气中晾干，得到复合产物；（4）将复合产物

专利地区：山东