光学测量装置和光学测量方法专利登记公告

专利名称：光学测量装置和光学测量方法

摘要：本发明提供一种光学测量装置和光学测量方法，不仅可以测量(计算)试样的全反射光，还可以单独测量(计算)散射反射光和反射雾度等反射特性，并利用该特征计算出试样的膜厚。上述光学测量装置包括：第一反射光测量光学系统(3)，利用积分球(2)对全反射光进行聚光；第二反射光测量光学系统(3)，利用所述积分球(2)对散射反射光进行聚光；以及检测光学系统(7)，对利用积分球(2)聚光后的光进行检测；基于通过第一反射光测量光学系统(3)和检测光学系统(7)得到的全反射光、以及通过第二反射光测量光学系统(3)和检测光学系统(7

专利类型：发明专利

专利号：CN201110391018.5

专利申请（专利权）人：株式会社堀场制作所

专利发明（设计）人：濱田基明

主权项：一种光学测量装置，其特征在于包括：第一反射光测量光学系统，对试样照射光并利用积分球使来自所述试样的第一反射光聚光；第二反射光测量光学系统，对所述试样照射光并利用所述积分球使来自所述试样的第二反射光聚光；以及检测光学系统，对利用所述积分球聚光后的光进行检测；基于通过所述第一反射光测量光学系统和所述检测光学系统得到的第一反射光、以及通过所述第二反射光测量光学系统和所述检测光学系统得到的第二反射光，求出全反射光和散射反射光，根据所述全反射光和散射反射光计算出反射雾度，并且根据所述全反射光计算出所述试样的膜厚。

专利地区：日本