用于沉积含金属薄膜的金属-烯醇化物前体专利登记公告

专利名称：用于沉积含金属薄膜的金属-烯醇化物前体

摘要：本发明涉及用于沉积含金属膜金属薄膜的金属-烯醇化物前体。提供了适合作为用于含金属薄膜的蒸气相沉积前体的有机金属化合物。还提供了使用特定有机金属前体沉积含金属薄膜的方法。这些含金属薄膜可用于电子器件的制造。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110399585.5

专利申请（专利权）人：气体产品与化学公司

专利发明（设计）人：J·A·T·诺曼;雷新建

主权项：由下式1表示的包含烯醇根配体的含金属前体：其中，M是选自元素周期表的镧系或3族至16族的、氧化态(n)为+2至+6的金属；R1、R2和R3独立地是H或选自甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、戊基、异戊基、仲戊基、己基、仲己基、叔丁基、叔戊基和1，1?二甲基丁基的C1?C6烷基；(L)是阴离子配体或阴离子配体混合物，选自：烷基取代的烯醇根、烷氧基、烷基氨基、二烷基氨基、二酮根、酮亚胺根、二亚胺根、胍基、脒基、环戊二烯基、烷基取代的环戊二烯基、烷氧基取代的环戊二烯基、氨基取代的环戊二烯基、吡咯基、

专利地区：美国