光刻设备和可移除构件专利登记公告

专利名称：光刻设备和可移除构件

摘要：一种光刻设备和可移除构件。所述光刻设备布置成将图案形成装置的图案传递至衬底上，所述光刻设备具有第一物体和安装在第一物体上以改善至/来自第二物体的热传递的平面构件。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110401694.6

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：R·A·C·M·比伦斯;T·P·M·卡迪

主权项：一种光刻设备，布置成将图案从图案形成装置传递至衬底上，所述光刻设备包括用以改善至/来自物体的热传递的构件。

专利地区：荷兰

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