抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂专利登记公告

专利名称：抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂

摘要：本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子)。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110402834.1

专利申请（专利权）人：东京应化工业株式会社

专利发明（设计）人：濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚

主权项：一种抗蚀剂组合物，其是含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1?1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，Q1是含有酯键或醚键的2价连接基团；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X为可具有取代基的从双环烷、三环烷、四环烷除去1个氢原子后的基团，该环结构中具有?O?SO2?键；A+是有机阳离子。FDA0000117023280000011.tif

专利地区：日本