反射膜及其制造方法专利登记公告

专利名称：反射膜及其制造方法

摘要：本发明提供反射膜及其制造方法。基板包括绝缘层及反射膜。反射膜以导体层、阻挡层及银薄膜的顺序包含上述导体层、上述阻挡层及上述银薄膜。对导体层的表面进行平坦化处理，使其表面粗糙度为0.35μm以下。此外，阻挡层的表面粗糙度为0.2μm以下。在绝缘层上形成导体层。银薄膜隔着阻挡层形成在导体层上。导体层上的银薄膜的表面粗糙度为0.2μm以下，光泽度为0.8以上，对于波长460nm的光的反射率为90％以上。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110406290.6

专利申请（专利权）人：日东电工株式会社

专利发明（设计）人：恒川诚

主权项：一种反射膜，其包括表面粗糙度为0.2μm以下、光泽度为0.8以上且对于波长460nm的光的反射率为90％以上的银薄膜。

专利地区：日本