吸收单元专利登记公告

专利名称：吸收单元

摘要：本发明公开了一种吸收单元，该吸收单元包括：第一吸收层，由第一吸收剂形成；以及第二吸收层，由密度高于第一吸收剂的密度的第二吸收剂形成并包覆在第一吸收层的表面上以防止第一吸收层产生尘粒。用由高密度吸收剂形成的第二吸收层包覆第一吸收层的上表面，从而防止微尘粒的产生，因此防止了二次污染。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110412456.5

专利申请（专利权）人：三星电子株式会社

专利发明（设计）人：金智勇;朴来垠

主权项：一种吸收单元，所述吸收单元包括：第一吸收层，包括第一吸收剂；以及第二吸收层，包括第二吸收剂，第二吸收剂的密度高于第一吸收剂的密度。

专利地区：韩国

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