边缘渐进阻抗加载薄膜及边缘渐进阻抗加载结构专利登记公告

专利名称：边缘渐进阻抗加载薄膜及边缘渐进阻抗加载结构

摘要：边缘渐进阻抗加载结构及制备方法，属于电子材料技术领域。本发明在阻抗膜上设置有渐进的周期性方形铝箔贴片和与其互补的渐进周期性孔单元，渐进方形铝箔单元和孔单元边长分别为a＝8mm，b＝5mm，c＝2mm，单元间距即周期为L＝10mm。本发明在频率、极化方式和方位角变化时能够取得很好的边缘散射抑制。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110416778.7

专利申请（专利权）人：电子科技大学

专利发明（设计）人：邓龙江;陈海燕;谢建良

主权项：边缘渐进阻抗加载薄膜，其特征在于，在阻抗膜上按行列设置有铝箔贴片和孔单元，每一行包括渐进的周期性铝箔贴片和与其互补的渐进周期性孔单元，各行的排布相同；每一列的铝箔贴片形状、尺寸相同，每一列的孔单元形状、尺寸相同，各列对齐。

专利地区：四川