发光装置和照明装置专利登记公告

专利名称：发光装置和照明装置

摘要：公开了一种能够降低被照射面上的照度不均匀的发光装置和照明装置。第一光束控制部件(103)控制来自发光元件(102)的入射光的配光，并且射出控制了配光的光。第二光束控制部件(105)具有从第一光束控制部件(103)射出的光入射的第二入射面(201)、以及位于第二入射面(201)的相反侧并射出从第二入射面(201)入射的光的第二出射面(202)。另外，第二入射面(201)和第二出射面(202)中的至少一个面使在包含发光元件(102)的光轴(P1)的假想剖面上具有光路且向第二入射面(201)或第二出射面(202

专利类型：发明专利

专利号：CN201110417493.5

专利申请（专利权）人：恩普乐股份有限公司

专利发明（设计）人：高鸟洋

主权项：一种发光装置，包括：光源；第一光束控制部件，控制从所述光源射出的光的配光；以及第二光束控制部件，控制从所述第一光束控制部件射出的光的配光，所述第二光束控制部件具有从所述第一光束控制部件射出的光入射的入射面、以及位于所述入射面的相反侧并射出从所述入射面入射的光的出射面，所述入射面和所述出射面中的至少一个面具有光路变换区域，该光路变换区域使在包含所述光源的光轴的假想剖面上具有光路且向所述一个面入射的光，与向和所述光轴正交的面入射时相比，向所述光轴侧折射。

专利地区：日本