一种铁钴软磁薄膜的电沉积制备方法专利登记公告

专利名称：一种铁钴软磁薄膜的电沉积制备方法

摘要：本发明涉及一种电沉积铁钴软磁薄膜的电化学制备方法，属于软磁合金领域。本发明的铁钴软磁薄膜的制备，以石墨板作为阳极，铜片作为阴极，铁的硫酸盐和钴的硫酸盐作为主盐，将基体进行预处理后放置于pH已调至1-5、温度控制为室温—60℃的电镀液中，在恒温电磁搅拌条件下，通过直流稳压电源提供电流进行电镀，镀层厚度通过施镀温度和时间来控制。该铁钴软磁性薄膜的制备工艺简单、成本低廉、反应条件温和可控以及制备效率高等优点。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110418872.6

专利申请（专利权）人：同济大学

专利发明（设计）人：陆伟;何晨冲;王岗;严彪

主权项：一种铁钴软磁薄膜的电沉积制备方法，为将基体进行预处理后置入电镀液中，以石墨板作为阳极，铜片作为阴极，铁的硫酸盐和钴的硫酸盐作为主盐，在恒温搅拌条件下，通过直流稳压电源提供电流进行铁钴共沉积获得所述铁钴软磁薄膜。

专利地区：上海