制备降冰片烯单体组合物的方法、由其制备的降冰片烯聚合物、包含该降冰片烯聚合物的光学膜以及制备该降冰片烯聚合物的方法专利登记公告

专利名称：制备降冰片烯单体组合物的方法、由其制备的降冰片烯聚合物、包含该降冰片烯聚合物的光学膜以及制备该降冰片烯聚合物的方法

摘要：本发明披露了一种制备降冰片烯单体组合物的方法，使用该降冰片烯单体组合物制备的降冰片烯聚合物，包含该降冰片烯聚合物的光学膜，以及制备降冰片烯聚合物的方法。该方法包括使包含环戊二烯、二聚环戊二烯或环戊二烯和二聚环戊二烯的混合物、乙酸酯化合物和溶剂的反应溶液反应以使外型异构体的含量为50mol％或以上。控制例如反应温度、反应时间、反应物之间的摩尔比率和所加入的溶剂的变量以使所包含的外型异构体的含量为50mol％或以上。因此，可以使用包含含量为50mol％或以上的外型异构体的乙酸酯降冰片烯单体组合物工业化生产乙酸

专利类型：发明专利

专利号：CN201110427497.1

专利申请（专利权）人：LG化学株式会社

专利发明（设计）人：崔大胜;郑惠英;洪性敦;李贞旼;李熹溱;全成浩

主权项：一种降冰片烯聚合物，其包含：重复单元，该重复单元由通式2所表示且包含含量为50mol％或以上的外型异构体：<通式2>其中，m为0～4的整数，n为0～10的整数，并且R为含有1～20个碳原子的烷基。FDA0000121950880000011.tif

专利地区：韩国