像素阵列基底结构、其制造方法、显示设备和电子装置专利登记公告

专利名称：像素阵列基底结构、其制造方法、显示设备和电子装置

摘要：一种像素阵列基底结构，包括：顺序堆叠在基底上的第一和第二平面化膜，在基底上形成电路单元；以及在第一和第二平面化膜之间形成的中继配线，其中中继配线将第一接触部分电连接到第二接触部分，第一接触部分形成在第一平面化膜上并且连接到电路单元，第二接触部分形成在第二平面化膜上、当从上面观看时不同于第一接触部分的位置。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110428133.5

专利申请（专利权）人：索尼公司

专利发明（设计）人：永泽耕一;玉置昌哉;林宗治;加边正章;福永容子

主权项：一种像素阵列基底结构，包括：顺序堆叠在基底上的第一和第二平面化膜，在基底上形成电路单元；以及在第一和第二平面化膜之间形成的中继配线，其中中继配线将第一接触部分电连接到第二接触部分，第一接触部分形成在第一平面化膜上并且连接到电路单元，第二接触部分形成在第二平面化膜上、当从上面观看时不同于第一接触部分的位置。

专利地区：日本