一种纳米压印光刻胶表面改性剂专利登记公告

专利名称：一种纳米压印光刻胶表面改性剂

摘要：本发明涉及一种纳米压印光刻胶表面改性剂，属于半导体制造技术光刻胶材料领域。该表面改性剂的组成和重量配比如下：有机小分子溶剂：65%-85%?全氟紫外固化树脂：10%-30%?表面活性剂0.5%-5%光引发剂0.1-0.5%稳定剂：0.1-0.5%。根据以上配比配料，依次放入容器中加热并搅拌使之混合均匀，在30-40℃温度下稳定半小时，经0.2μm孔径过滤器过滤即得表面处理剂。将其喷涂于压印光刻胶表面做表面处理剂。本发明制得的表面处理剂能够有效的降低光刻胶表面能，以达到顺利脱模、减少缺陷、保护模板的目的。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110428667.8

专利申请（专利权）人：上海大学

专利发明（设计）人：张剑平;赵彬;王金合;任鑫;施利毅

主权项：?一种纳米压印光刻胶表面改性剂，其特征在于具有以下的组成成分及重量百分比：有机小分子溶剂???????????65%?85%??全氟紫外固化树脂?????????10%?30%??表面活性剂???????????????0.5%?5%?光引发剂?????????????????0.1?0.5%?稳定剂???????????????????0.1?0.5%所述的有机小分子溶剂，为乳酸乙酯、丁酮、环己酮、二丙酮醇、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇单丁醚中的任一种或几种的组合；所述的全氟紫外固化树脂碳原子数目为大

专利地区：上海