光刻设备和器件制造方法专利登记公告

专利名称：光刻设备和器件制造方法

摘要：本发明涉及一种光刻设备和器件制造方法。光刻设备包括：投影系统、承载装置和驱动系统，驱动系统用于在参考正交的轴线X和Y定义的平面中相对于投影系统移动承载装置，其中：驱动系统包括：穿梭件，构造成且布置成平行于Y轴线移动；穿梭件连接器，用于将穿梭件连接至承载装置，穿梭件连接器被使得允许承载装置沿着平行于X轴线的方向相对于穿梭件移动；和穿梭件驱动器，用于平行于Y轴线驱动穿梭件移动，其中：穿梭件沿着平行于X轴线的方向仅定位至承载装置的一侧，仅穿梭件中的一个连接至承载装置；且穿梭件驱动器和穿梭件连接器配置成供给由驱动

专利类型：发明专利

专利号：CN201110428811.8

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：J·P·M·B·沃麦尤伦;A·F·J·德格鲁特;T·P·M·卡迪;J·德保伊

主权项：一种光刻设备，所述光刻设备包括：投影系统，布置成将图案从图案形成装置转移至衬底上；承载装置；和驱动系统，用于在通过参考正交的轴线X和Y定义的平面中相对于所述投影系统移动所述承载装置，其中：所述驱动系统包括：穿梭件，构造成且布置成平行于所述Y轴线移动；穿梭件连接器，用于将所述穿梭件连接至所述承载装置，所述穿梭件连接器被使得允许所述承载装置沿着平行于所述X轴线的方向相对于所述穿梭件移动；和穿梭件驱动器，用于平行于所述Y轴线驱动所述穿梭件移动，其中：所述穿梭件沿着平行于所述X轴线的方向仅定位至所述承载装置的一侧

专利地区：荷兰