光学分析装置专利登记公告

专利名称：光学分析装置

摘要：本发明提供一种光学分析装置，通过降低腐蚀性气体对焦点位置修正用的基准修正构件的影响，在降低光学分析装置的测量误差的同时，解决伴随更换基准修正构件所产生的各种问题。本发明的光学分析装置包括基准修正构件(6)，该基准修正构件(6)能在位于聚光光学系统(3)和检测光学系统(4)之间的光路(L)上的基准位置(R)、以及从该基准位置(R)退避开的退避位置(S)之间移动，使在基准位置(R)上通过的光的焦点位置与通过位于测量位置(P)上的测量单元(5)的光的焦点位置基本相同，基准修正构件(6)的在基准位置(R)上与光路

专利类型：发明专利

专利号：CN201110432455.7

专利申请（专利权）人：株式会社堀场制作所

专利发明（设计）人：横山一成;有本公彦

主权项：一种光学分析装置，其特征在于包括：聚光光学系统，对光源发出的光进行聚光；检测光学系统，设置在由所述聚光光学系统聚光后的光的光路上，对所述光进行检测；测量单元，能在位于所述聚光光学系统和所述检测光学系统之间的光路上的测量位置、以及从所述测量位置退避开的退避位置之间移动；基准修正构件，能在位于所述聚光光学系统和所述检测光学系统之间的光路上的基准位置、以及从所述基准位置退避开的退避位置之间移动，并且使在所述基准位置上通过的光的焦点位置与通过位于所述测量位置上的测量单元的光的焦点位置基本相同；以及移动机构，用于移

专利地区：日本