使用针孔狭缝的被动多轴差分吸收光谱仪系统专利登记公告

专利名称：使用针孔狭缝的被动多轴差分吸收光谱仪系统

摘要：本发明公开了一种使用针孔狭缝的被动多轴差分吸收光谱仪系统，包括有望远镜、成像光谱仪，望远镜包括有两块离轴放置的凹面反射镜，分别为凹面反射镜一、凹面反射镜二，凹面反射镜一、凹面反射镜二之间设有消偏器，成像光谱仪包括入射针孔狭缝，所述的成像光谱仪和望远镜连接，入射针孔狭缝放置在望远镜的焦面处；光垂直入射到凹面反射镜一，反射光经消偏器消除偏振态后入射到凹面反射镜二上，反射光聚焦到入射针孔狭缝，经针孔狭缝进入成像光谱仪，经准直凹面反射镜准直，再由平面光栅分光后，通过聚焦凹面反射镜聚焦到CCD探测器上，所述CCD探

专利类型：发明专利

专利号：CN201110434181.5

专利申请（专利权）人：中国科学院安徽光学精密机械研究所

专利发明（设计）人：周海金;刘文清;司福祺;江宇;谢品华

主权项：一种使用针孔狭缝的被动多轴差分吸收光谱仪系统，包括有望远镜、成像光谱仪，其特征在于：所述的望远镜包括有两块离轴放置的凹面反射镜，分别为凹面反射镜一、凹面反射镜二，所述的望远镜采用长条形视场，所述凹面反射镜一、凹面反射镜二之间设有消偏器，所述的成像光谱仪包括入射狭缝、准直凹面反射镜、平面光栅、聚焦凹面反射镜、探测器，所述的成像光谱仪和望远镜连接，所述的成像光谱仪的入射狭缝放置在望远镜的焦面处；入射光经望远镜的凹面反射镜一反射到消偏器，消除偏振态后入射到凹面反射镜二上，凹面反射镜二的反射光聚焦到入射狭缝，经入

专利地区：安徽