用于薄膜沉积的方法和系统专利登记公告

专利名称：用于薄膜沉积的方法和系统

摘要：本发明公开一种薄膜沉积系统，包括处理室，其构造成在反应气和吹净气连贯供入处理室内时提供层流状气流并且虚拟划分成多个空间，在虚拟划分的空间在处理室内移动时，针对多个基片实现原子层沉积，减少处理时间。薄膜沉积系统还包括料盒，其内装载多个基片，以使得基片之间隔开恒定的距离，且基片之间的距离为层流之间的距离；接收料盒的处理室，以使得料盒与处理室内壁之间的距离为层流之间的距离，且在处理室内基片经受原子层沉积；供气单元，其安置在处理室的一侧壁上且将气体沿与基片布置平行的方向供至料盒内安置的基片，从而气体层流状提供至基

专利类型：发明专利

专利号：CN201110434373.6

专利申请（专利权）人：NCD有限公司

专利发明（设计）人：申雄澈;白敏;崔圭政

主权项：一种薄膜沉积系统，包括：料盒，其装载多个基片，以使得各基片之间彼此隔开恒定的距离，并且相应的基片之间的距离为层流之间的距离；处理室，其中所述处理室接收所述料盒，以使得所述料盒与所述处理室的内壁之间的距离为层流之间的距离，并且，在所述处理室内，所述各基片经受原子层沉积；供气单元，其中所述供气单元安置在所述处理室的一个侧壁上并且将气体沿与所述基片的布置平行的方向供至在所述料盒内安置的所有基片，从而所述气体以层流状被提供至各基片的前端、各基片之间的空间、以及基片与处理室的壁之间的空间；以及排气单元，其中所述排气

专利地区：韩国